99.9% शुद्धता और 10 मिमी बाहरी व्यास वाले टैंटलम क्रूसिबल कॉम्पैक्ट, मजबूत बर्तन हैं जिन्हें छोटे पैमाने पर औद्योगिक पिघलने, नमूना लेने या प्रतिक्रियाशील धातुओं को संभालने के लिए डिज़ाइन किया गया है जहां जगह की कमी और सटीक खुराक मायने रखती है।
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
टैंटलम क्रूसिबल में उच्च शुद्धता को परिभाषित करना
एक टैंटलम क्रूसिबल हाई प्योरिटी को परिष्कृत टैंटलम से निर्मित किया जाता है, जिसमें अशुद्धता का स्तर कम से कम भागों में {{0}प्रति मिलियन में होता है, जो औद्योगिक प्रक्रियाओं के लिए संदूषण मुक्त रोकथाम प्रदान करता है, जहां सामग्री की अखंडता प्रदर्शन और उपज निर्धारित करती है।
उच्च शुद्धता आमतौर पर 99.95% टैंटलम से शुरू होती है, प्रीमियम ग्रेड 99.99% या उससे अधिक तक पहुंच जाता है। अशुद्धता नियंत्रण ट्रिपल पिघल प्रक्रियाओं (वैक्यूम आर्क रीमेल्टिंग + इलेक्ट्रॉन बीम मेल्टिंग + ज़ोन रिफाइनिंग) के माध्यम से Fe, Ni, Cr, O, N और C को बहुत कम पीपीएम मानों तक सीमित करने पर केंद्रित है। यह सुनिश्चित करता है कि उच्च तापमान प्रसंस्करण के दौरान क्रूसिबल पिघले हुए धातुओं, विशेष मिश्र धातुओं या सिरेमिक में विदेशी तत्वों को शामिल नहीं करेगा।
अपवित्रता
विशिष्ट अधिकतम (पीपीएम) - 99.99% ग्रेड
अधिक होने पर प्रभाव
फ़े
5 से कम या उसके बराबर
मिश्र धातु रसायन विज्ञान को बदल देता है, समावेशन का कारण बनता है
नी
3 से कम या बराबर
पिघल के संक्षारण प्रतिरोध को कम करता है
O
5 से कम या उसके बराबर
उच्च तापमान भंगुरता उत्पन्न करता है
C
10 से कम या उसके बराबर
कार्बाइड बनाता है, संरचना को कमजोर करता है
उच्च शुद्धता का लाभ उठाने वाले औद्योगिक अनुप्रयोग
दुर्लभ पृथ्वी एवं सामरिक धातुएँ- फ्लोराइड पिघलने में नियोडिमियम या डिस्प्रोसियम की इलेक्ट्रोलाइटिक कमी; शुद्धता चुंबकीय संपत्ति के क्षरण को रोकती है।सेमीकंडक्टर लक्ष्य- स्पटरिंग के लिए उच्च शुद्धता वाली धातुओं (जैसे, मोलिब्डेनम, टंगस्टन) को पिघलाना; कोई डोपेंट संदूषण नहीं.परमाणु ईंधन निर्माण- न्यूट्रॉन अवशोषक जोड़े बिना पिघला हुआ एक्टिनाइड मिश्र धातु युक्त।
High purity crucibles maintain structural stability at >अक्रिय वायुमंडल में 2400 डिग्री, नगण्य वाष्प दबाव के साथ, बड़े बैचों में सुसंगत रसायन विज्ञान सुनिश्चित करता है।
परिचालन संबंधी लाभ
अति-निम्न गैस उत्सर्जन (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) supports ultra-high-vacuum processes. Fine, recrystallized grain structure enhances creep resistance, allowing loads of 10 MPa at 2000 °C. Smooth surface finish (Ra ≤ 0.4 µm) aids cleaning and prevents melt adhesion, making them ideal for automated high-throughput lines in aerospace alloy and electronics material plants.
इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीकरणकर्ता के लिए वाष्पीकरण सामग्री 99.95% 3N5 टैंटलम क्रूसिबल
टैंटलम पार्ट्स प्रसंस्करण संयंत्र पिघलने की प्रक्रिया भागों के लिए विभिन्न आकार के चमकीले भूरे टैंटलम क्रूसिबल को अनुकूलित करता है
अनुकूलित R05200 टा 99.95% शुद्ध पॉलिश टैंटलम क्रूसिबल टैंटलम कार्बाइड प्रति किलो कीमत
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