शुद्ध टैंटालम लक्ष्य

बुनियादी विनिर्माण विधि यह है कि उच्च शुद्धता वाले टैंटलम पाउडर को पहले ब्लॉकों में सिंटर किया जाता है, और फिर उच्च शुद्धता वाले टैंटलम सिल्लियां प्राप्त करने के लिए एक उच्च-वैक्यूम इलेक्ट्रॉन बीम पिघलने वाली भट्टी से गुजारा जाता है, और फिर टैंटलम सिल्लियों को बार-बार प्लास्टिक रूप से विकृत किया जाता है और एक समान अनाज और एक निश्चित आंतरिक बनावट प्राप्त करने के लिए एनील किया जाता है। टैंटलम लक्ष्य रिक्त, लक्ष्य रिक्त को पीछे की प्लेट में वेल्डेड किया जाता है और अंतिम उत्पाद के लिए मशीनीकृत किया जाता है। ऐसी विनिर्माण विधि में, उच्च शुद्धता वाले टैंटलम पाउडर को पहले ब्लॉकों में सिंटर किया जाना चाहिए, फिर उच्च वैक्यूम इलेक्ट्रॉन बीम द्वारा सिल्लियों में गलाना चाहिए, और फिर बार-बार प्लास्टिक को विकृत करना और एनील करना चाहिए ताकि अंततः ऐसी सामग्री प्राप्त हो सके जिसका उपयोग अर्धचालक स्पटरिंग लक्ष्यों के उत्पादन में किया जा सके। लक्ष्य रिक्त।

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