उच्च शुद्धता वाले टैंटालम लक्ष्य का अनुप्रयोग
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग, स्थायी चुंबकीय सामग्री, नरम चुंबकीय सामग्री, कार्यात्मक सामग्री फिल्म आदि में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
उच्च प्रदर्शन वाले टैंटालम स्पटरिंग सामग्रियों का उपयोग पतली फिल्म कोटिंग अनुप्रयोगों, सीडी-रोम, सजावट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, कार्यात्मक कोटिंग्स, अन्य ऑप्टिकल सूचना भंडारण स्थान उद्योगों, ग्लास कोटिंग उद्योगों जैसे ऑटोमोटिव ग्लास और वास्तुशिल्प ग्लास, ऑप्टिकल संचार आदि के लिए किया जाता है।
टैंटालम स्पटरिंग लक्ष्यों के यांत्रिक पैरामीटर
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श्रेणी |
3N, 3N5, 4N, टा 99.99% मिनट के साथ |
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अनाज आकार |
ASTM 4 या उससे बेहतर |
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सतह खत्म |
16Rms अधिकतम या Ra 0.4 (RMS64 या बेहतर) |
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समतलता |
{{0}}.1मिमी या 0.15% अधिकतम |
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सहनशीलता |
+/-0.010" सभी आयामों पर |
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हमारे फायदे
1. प्रथम श्रेणी की तकनीक और कठोर कार्य रवैया
2. विनिर्माण प्रक्रिया के दौरान आपकी सभी प्रकार की समस्याओं को हल करने के लिए पेशेवर टीमें
3.दोहराए गए ऑर्डर के लिए कम क्रय लागत
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हमारे बारे में अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
प्रश्न: क्या आप ट्रेडिंग कंपनी या निर्माता हैं?
एक: हम कारखाने हैं।
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प्रश्न: क्या आप नमूने प्रदान करते हैं? क्या यह मुफ़्त या अतिरिक्त है?
एक: हाँ, हम मुक्त प्रभार के लिए नमूना की पेशकश कर सकता है, लेकिन माल ढुलाई की लागत का भुगतान नहीं करते हैं।
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