Zr स्पटरिंग लक्ष्य

Zr स्पटरिंग लक्ष्य

सामग्री: ज़िरकोनियम
रासायनिक संरचना: 2N5
शुद्धता: 2N5
आकार: 522*96 मिमी या कोई भी आकार जो आप चाहते हैं
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
जिरकोनियम लक्ष्य का परिचय और प्रक्रिया प्रवाह

 

ज़िरकोनियम (Zr) स्पटरिंग लक्ष्य में इसके कच्चे माल के समान गुण हैं। इसका घनत्व 6.49g/cc है, गलनांक 1852 डिग्री है, और वाष्प दाब 1987 डिग्री पर 10-4 टॉर है।
ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य का व्यापक रूप से सजावटी कोटिंग, अर्धचालक और ऑप्टिकल कोटिंग क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है।

ज़िरकोनियम लक्ष्य तैयार करने की प्रक्रिया
सामग्री की तैयारी - इलेक्ट्रॉन बीम पिघलना - रासायनिक विश्लेषण - फोर्जिंग - रोलिंग - एनीलिंग - मेटलोग्राफिक निरीक्षण - मशीनिंग - आयामी निरीक्षण - सफाई - अंतिम निरीक्षण - पैकेजिंग

 

ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्यों का अनुप्रयोग

 

पतली फिल्म जमाव, ईंधन कोशिकाओं, सजावट, अर्धचालक, डिस्प्ले, एलईडी और फोटोवोल्टिक उपकरणों, कार्यात्मक कोटिंग्स और अन्य ऑप्टिकल सूचना भंडारण अंतरिक्ष उद्योगों, ग्लास कोटिंग उद्योगों जैसे ऑटोमोटिव ग्लास और वास्तुशिल्प ग्लास, ऑप्टिकल संचार और अन्य क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

 

हमारे फायदे

 

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जिरकोनियम लक्ष्यों के प्रासंगिक पैरामीटर

 

वस्तु:

Zr (जिरकोनियम)

घनत्व

6.49 ग्राम/सेमी3

गलनांक

1852 डिग्री

क्वथनांक

4377 डिग्री

रंग

हल्का भूरा रंग

 

कंपनी का वातावरण और ग्राहक दौरे

High Purity Zirconium Sputtering Target company

 

High Purity zr Sputtering Target company

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