Zirconium लक्ष्य उत्पाद परिभाषा और अनुप्रयोग परिचय
परिभाषा और आवेदन:
ज़िरकोनियम टारगेटएक विशिष्ट तैयारी प्रक्रिया द्वारा बनाया गया है और इसका उपयोग जिरकोनियम पतली फिल्म बयान को स्पटर करने के लिए किया जाता है।
इसका उपयोग मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में स्पटरिंग डिपोजिशन प्रक्रिया में किया जाता है, जैसे कि MOSFET उपकरणों में गेट इलेक्ट्रोड और मेटल इंटरकनेक्ट लेयर्स तैयार करना, साथ ही ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक क्षेत्र में इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण के लिए कैथोड और ऑप्टिकल कोटिंग्स भी।
Zirconium लक्ष्य उत्पाद रचना पैरामीटर तालिका
| आणविक वजन | 91.22 |
|---|---|
| उपस्थिति | ग्रे मेटल |
| गलनांक | 1852 डिग्री |
| क्वथनांक | 3580 डिग्री |
| घनत्व | 6506 किग्रा/मी3 |
| H2O में घुलनशीलता | N/A |
| पिज़ोन अनुपात | 0.34 |
| यंग का मापांक | 88 जीपीए |
Zirconium लक्ष्य उत्पाद चित्र


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