टंगस्टन लक्ष्य के मुख्य अनुप्रयोग क्षेत्र
इसके उच्च गलनांक, उच्च घनत्व और अच्छे संक्षारण प्रतिरोध के कारण, टंगस्टन लक्ष्य का व्यापक रूप से कई क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है:
सेमीकंडक्टर उद्योग: गेट इलेक्ट्रोड, कनेक्शन वायरिंग, प्रसार बाधाएं आदि बनाने के लिए उपयोग किया जाता है। मेडिकल इमेजिंग: निदान के लिए एक्स-रे और गामा किरणों का उत्पादन करने के लिए उपयोग किया जाता है। एयरोस्पेस: उच्च तापमान वाले घटकों और ईंधन तत्वों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है। इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग: इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण कोटिंग, आयन बीम स्पटरिंग कोटिंग, आदि के लिए उपयोग किया जाता है। चिकित्सा उपकरण: चिकित्सा उपकरणों के उच्च तापमान वाले घटकों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है।
टंगस्टन लक्ष्य के मुख्य पैरामीटर
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गलनांक (डिग्री) |
3407 |
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घनत्व(ग्राम/सेमी³) |
19.35 |
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क्वथनांक (डिग्री) |
5657 |
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तकनीकी |
वैक्यूम मेल्टिंग, पेटेंटेड थर्मो-मैकेनिकल प्रक्रिया और मशीन का काम |
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आवेदन |
सेमीकंडक्टर, माइक्रो-इलेक्ट्रॉनिक्स आदि। |
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परमाणु आयतन |
9.53 सेमी3/मोल |
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क्रिस्टल संरचना और जाली स्थिरांक |
- डब्ल्यू: बीसीसी ए=3.16524 एनएम (25 डिग्री) |
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-W |
घन जाली a=5.046 एनएम (630 डिग्री से नीचे स्थिर) |
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पिघलने की गुप्त ऊष्मा |
40.13±6.67kJ/mol |
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ऊर्ध्वपातन ताप |
847.8 केजे/मोल(25 डिग्री) |
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वाष्पीकरण की गर्मी |
823.85 ± 20.9kj/mol (क्वथनांक) |
टंगस्टन लक्ष्य चित्र प्रदर्शन
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