99.95% डब्ल्यू स्पटरिंग लक्ष्य

99.95% डब्ल्यू स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक रचना: डब्ल्यू
प्रभावी शुद्धता (%): 99.95 (3N5)
पिघलने बिंदु: 3407C
घनत्व (g\/cm3): 19.35
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
टंगस्टन लक्ष्यों के उत्पादन के लिए पाउडर धातुकर्म विधि

 

टंगस्टन पाउडर को प्री-डिगासिंग के लिए एक वैक्यूम हीट ट्रीटमेंट भट्ठी में डालें, फिर हाइड्रोजन का परिचय दें और डिगासिंग के लिए हीटिंग जारी रखें।
वैक्यूम गर्म दबाव द्वारा एक बार टंगस्टन पाउडर को एक बार पाप किया जाता है।
प्राथमिक sintering के बाद उत्पाद को गर्म आइसोस्टैटिक दबाव द्वारा दो बार पाप किया जाता है।
द्वितीयक sintering के बाद उत्पाद यांत्रिक प्रसंस्करण द्वारा जमीन प्राप्त करने के लिए जमीन हैटंगस्टन टारगेट.

 

टंगस्टन लक्ष्य उत्पाद विवरण पैरामीटर तालिका प्रदर्शन

 

घनत्व (जी\/सेमी)

19.35

उबलते बिंदु (डिग्री)

5657

तकनीकी

वैक्यूम पिघलने, पेटेंट थर्मो-मैकेनिकल प्रक्रिया और मशीन वर्क

आवेदन

अर्धचालक, माइक्रो-इलेक्ट्रॉनिक्स आदि।

परमाणु मात्रा

9.53 सेमी 3\/मोल

क्रिस्टल संरचना और जाली स्थिर

- डब्ल्यू: बीसीसी ए=3। 16524 एनएम (25 डिग्री)

-W

क्यूबिक जाली ए=5। 046 एनएम (630 डिग्री से नीचे स्थिर)

 

झेनन टंगस्टन लक्ष्य उत्पाद विवरण
tungsten sputtering target factory
उच्च शुद्धता टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य निर्माण
w sputtering target factory
उच्च शुद्धता w स्पटरिंग लक्ष्य निर्माण
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ज़ेनन के बारे में प्रश्न

 

प्रश्न: अपने शिपमेंट की गुणवत्ता को कैसे नियंत्रित और गारंटी दें?

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प्रश्न: MOQ के बारे में कैसे? यदि मेरा पहला आदेश qty छोटा है, तो क्या आप स्वीकार करेंगे?

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प्रश्न: आपके भुगतान की शर्तें क्या हैं?

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