शुद्ध नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य का विस्तृत अनुप्रयोग
नाइओबियम लक्ष्यरासायनिक, चिकित्सा, कांच, बिजली, इलेक्ट्रोप्लेटिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स, एयरोस्पेस, सैन्य, पेट्रोलियम और अन्य उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
नाइओबियम और इसके मिश्र धातु पतली फिल्म सामग्री की तैयारी के लिए एक महत्वपूर्ण कच्चे माल के रूप में, नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य का व्यापक रूप से लिक्विड क्रिस्टल फ्लैट पैनल डिस्प्ले, ऑप्टिकल लेंस, इलेक्ट्रॉनिक इमेजिंग, सूचना भंडारण, सौर सेल, ग्लास जैसे उत्पादों के लिए ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक क्षेत्र में उपयोग किया जाता है। कोटिंग इत्यादि, और जहाजों और रसायनों जैसे संक्षारक वातावरण में उपयोग किया जाता है।
स्पिन-लेपित नाइओबियम लक्ष्य मुख्य रूप से उन्नत टच स्क्रीन, फ्लैट पैनल डिस्प्ले और ऊर्जा-बचत ग्लास सतह कोटिंग्स के लिए उपयोग किए जाते हैं, और ग्लास स्क्रीन पर विरोधी-प्रतिबिंब प्रभाव डालते हैं।
नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य विस्तृत पैरामीटर तालिका
| सामग्री प्रकार | नाइओबियम | ज़ेड अनुपात | 0.492 |
|---|---|---|---|
| प्रतीक | नायब | धूम | डीसी |
| परमाणु भार | 92.90638 | अधिकतम पावर घनत्व* | 100 |
| परमाणु संख्या | 41 | (वाट/वर्ग इंच) | |
| रंग/रूप | ग्रे, धात्विक | बांड का प्रकार | इंडियम, इलास्टोमेर |
| ऊष्मीय चालकता | 54 W/m.K | टिप्पणियाँ | डब्ल्यू स्रोत पर हमला। |
| गलनांक (डिग्री) | 2,468 | ||
| थर्मल विस्तार का गुणांक | 7.3 x 10-6/K |
| आकार | आयाम | सहनशीलता |
|---|---|---|
| गोल स्पटरिंग लक्ष्य | {{0}}.6″ से 15″ व्यास x 0.12″ से 1″ मोटाई | +/-0.010″ या अनुरोध पर |
| आयताकार और सपाट स्पटरिंग लक्ष्य | 0.04″ से 1.5″ मोटाई x 31″ चौड़ाई तक x 115″ लंबाई | +/-0.010″ या अनुरोध पर |
शुद्ध नाइओबियम लक्ष्य नमूना प्रदर्शन


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