नाइओबियम लक्ष्यों का चयन और अनुप्रयोग
का चयननाइओबियम लक्ष्यशुद्धता, घनत्व, जाली संरचना और सतह की गुणवत्ता सहित कई कारकों पर विचार करने की आवश्यकता है। शुद्धता जितनी अधिक होगी, लक्ष्य का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा; उच्च घनत्व वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर बेहतर होती है; जाली संरचना भौतिक गुणों को प्रभावित करती है, जैसे तापीय चालकता और ताकत; सतह की गुणवत्ता स्पटरिंग दर और फिल्म की गुणवत्ता को प्रभावित करती है।
नाइओबियम लक्ष्यों का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स, बिजली, ऊर्जा और अन्य क्षेत्रों के लिए उपयुक्त उच्च तापमान वाली सुपरकंडक्टिंग फिल्मों की तैयारी के लिए। पावर ट्रांसमिशन में, उच्च तापमान वाली सुपरकंडक्टिंग फिल्में ट्रांसमिशन घाटे को काफी कम कर सकती हैं और ट्रांसमिशन दक्षता में सुधार कर सकती हैं। इसके अलावा, नाइओबियम लक्ष्य का उपयोग लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, सौर ऊर्जा उद्योग, गर्मी प्रतिरोधी और संक्षारण प्रतिरोधी कोटिंग्स आदि जैसे उद्योगों में भी किया जाता है।
नाइओबियम लक्ष्य के बुनियादी पैरामीटर
| आकार | छर्रों, कणिकाओं, तलीय/गोल/प्लेट/रोटरी/बार, अनुरोध के रूप में। |
| सतह | पॉलिश सतह |
| घनत्व | 8.58 ग्राम/सेमी3 |
| गलनांक | 2468 डिग्री |
| आवेदन | पीवीडी फिल्म कोटिंग, ऑप्टिकल थिन फिल्म कोटिंग, उद्योग उपयोग, प्रक्रिया, सेमीडॉक्टर क्षेत्र, प्रयोग आदि |
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