शुद्ध मोली धातु स्पटरिंग लक्ष्य

शुद्ध मोली धातु स्पटरिंग लक्ष्य

प्रमाणपत्र: ISO9001:2015
पैकेजिंग: वैक्यूम पैकेजिंग
कीवर्ड: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य
मुख्य अनुप्रयोग: CVD सामग्री, एयरोस्पेस
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
मोलिब्डेनम लक्ष्य का अनुप्रयोग

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य सब्सट्रेट पर एक पतली फिल्म बना सकता है और इसका व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक घटकों और इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों, एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर भंडारण, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरणों में उपयोग किया जाता है; इसका उपयोग ग्लास कोटिंग क्षेत्रों में भी किया जा सकता है; इसका उपयोग पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान संक्षारण, सजावटी उत्पादों और अन्य उद्योगों में भी किया जा सकता है।
हम रोलिंग द्वारा गर्म और ठंडे रोल्ड उच्च तापमान मोलिब्डेनम लक्ष्य उत्पादों का उत्पादन करने के लिए एक मालिकाना उत्पादन प्रक्रिया का उपयोग करते हैं, जो मोलिब्डेनम के क्रिस्टलीकरण तापमान को 500 डिग्री ~ 700 डिग्री तक बढ़ाता है, 1850 डिग्री के तापमान के साथ वैक्यूम भट्टियों के लिए हीट शील्ड सामग्री की जरूरतों को पूरा करता है।

 

ज़ेनान की सेवाएँ

 

1. आपकी आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित और आपको एक वैध उद्धरण प्रदान करते हैं।
2. आपके लिए समाधान डिजाइन करने के लिए हमारे पास पेशेवर इंजीनियर हैं।
3. हमारी टीम आपकी पूरी परियोजना के लिए पेशेवर सलाह और सहायता प्रदान करेगी।
4. हमारा कारखाना किसी भी समय साइट पर निरीक्षण का स्वागत करता है।
5. बिक्री के बाद उच्च गुणवत्ता वाली सेवा सुनिश्चित करें।

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य के विभिन्न पैरामीटर

 

नाम मो टारगेट
सामग्री मोलिब्डेनम
पवित्रता 99.9~99.98%
आकार स्वनिर्धारित
रंग चाँदी
आकार स्वनिर्धारित
सतह पॉलिश सतह;Ra 0.8μm से कम या बराबर
घनत्व 10.20g/cm³(99.8%) से अधिक या बराबर
 

 

कंपनी का वातावरण और ग्राहक दौरे

moly metal sputtering target company

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हम ईमानदार प्रबंधन के सिद्धांत का पालन करते हैं और ग्राहकों के साथ दीर्घकालिक सहकारी संबंध स्थापित करते हैं ताकि एक साथ विकास और विकास हो सके। भविष्य के सहयोग में, हम आपको बेहतर उत्पाद और सेवाएँ प्रदान करने के लिए सुधार और नवाचार करना जारी रखेंगे।

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