मोलिब्डेनम लक्ष्य

मोलिब्डेनम लक्ष्य

उत्पत्ति: चीन
शुद्धता विनिर्देश: 99.95% से अधिक या बराबर
घनत्व: 10.10g/cm3 से अधिक या बराबर
अनुप्रयोग: औद्योगिक
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
मो स्पटरिंग टारगेट

 

हमारे कारखाने के मोलिब्डेनम लक्ष्य गर्म-दबाव और उच्च शुद्धता वाले मोलिब्डेनम पाउडर को सिंटर करके तैयार किए जाते हैं। हम गुणवत्ता, उत्कृष्ट सेवा और समय पर डिलीवरी की गारंटी देते हैं। कृपया कोटेशन के लिए हमसे संपर्क करें।

 

उच्च शुद्धता MoSputtering लक्ष्य

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य औद्योगिक-ग्रेड कोटिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, सैन्य और अन्य क्षेत्रों के लिए उपयुक्त हैं।

हमारे कारखाने में मोलिब्डेनम लक्ष्यों के पारंपरिक आकार:

1. व्यास: 1 इंच, 2 इंच, 3 इंच, 4 इंच, 5 इंच, आदि।

2. मोटाई: 1 मिमी, 2 मिमी, 3 मिमी, 4 मिमी और अन्य आकार अनुकूलित किया जा सकता है

 

उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम लक्ष्य पैरामीटर संदर्भ

 

नाम

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

पवित्रता

99.95% से अधिक या बराबर

घनत्व

10.22g/cm3 से अधिक या बराबर

सतह

पीसना / पॉलिश करना

प्रकार

मोलिब्डेनम लक्ष्य, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, रोटरी मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, विशेष मोलिब्डेनम लक्ष्य।

प्रक्रिया

फोर्जिंग - सिंटरिंग - पीसना

 

पैकेट

 

  1. नमीरोधी कागज में पैक किया गया।
  2. क्राफ्ट पेपर पैकेजिंग.
  3. लकड़ी का बक्सा चारों तरफ से फोम प्लास्टिक से भरा हुआ है।
  4. उत्पाद लकड़ी के बक्से में पैक किया जाता है।
  5. अनुकूलित पैकेजिंग

 

आपके लिए चुनने के लिए परिवहन के विविध विकल्प

 

  1. वायु परिवहन
  2. शिपिंग
  3. एक्सप्रेस द्वारा: डीएचएल, फेडेक्स, ईएमएस, यूपीएस, एसएफ-एक्सप्रेस, आदि।

 

Mo Sputtering Targets

Moly Sputtering Targets

Mo target

 

हम आपके साथ सहयोग करने के लिए तत्पर हैं, यदि आपके पास हमारे उत्पादों और सेवाओं के बारे में कोई प्रश्न या आवश्यकता है, तो कृपया हमसे संपर्क करने में संकोच न करें:info@zaferroalloy.com।

 

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