उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

मॉडल: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य
नाम: मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य
शुद्धता: Mo 99.95% से अधिक या बराबर
घनत्व: 10.22 ग्राम/सेमी3 से अधिक या बराबर
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
मोलिब्डेनम लक्ष्य का विस्तृत परिचय

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य एक उच्च गुणवत्ता वाली धातु सामग्री है जिसका उपयोग स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रिया में किया जाता है। मोलिब्डेनम के उच्च गलनांक और ऊष्मीय स्थिरता के कारण, मोलिब्डेनम लक्ष्य उच्च तापमान स्पटरिंग प्रक्रिया में अच्छा प्रदर्शन करता है, इसमें उत्कृष्ट प्रदर्शन और उपयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला है। हमारे मोलिब्डेनम लक्ष्य में फिल्म जमाव प्रक्रिया में उच्च गुणवत्ता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करने के लिए उच्च रासायनिक शुद्धता है; इसमें एक समान माइक्रोस्ट्रक्चर भी है, जो एक समान और स्थिर फिल्मों का उत्पादन करने में मदद करता है। मोलिब्डेनम लक्ष्यों का व्यापक रूप से अर्धचालक निर्माण में प्रवाहकीय परतों, ऑप्टिकल फिल्मों और अन्य कार्यात्मक फिल्मों की तैयारी के लिए उपयोग किया जाता है। प्रकाशिकी के क्षेत्र में, मोलिब्डेनम लक्ष्यों का उपयोग उच्च-परावर्तन लेंस, ऑप्टिकल कोटिंग्स और अन्य ऑप्टिकल घटकों को तैयार करने के लिए भी किया जा सकता है।

 

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मोलिब्डेनम लक्ष्य के विभिन्न पैरामीटर

 

नाम धातु मोलिब्डेनम गोल स्पटरिंग लक्ष्य (मो टारगेट)
सामग्री मोलिब्डेनम धातु सामग्री
पवित्रता 99.9%-99.95%, 3N,3N5
आकार 10x10x10mm,1-10mm, D3x3mm, 2इंच,3इंच,या अनुरोध के रूप में
रंग धातुई रंग

 

कंपनी का वातावरण और ग्राहक दौरे

pure moly sputtering target company

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