टैंटलम बार 99.95% शुद्धता टा टैंटलम रॉड कस्टम आकार धातु टैंटलम उत्पाद बिक्री पर
| रासायनिक रचना | |||||
| तत्व | R05200 | R05400 | R05255 | R05252 | R05240 |
| C | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 |
| O | 0.015 | 0.03 | 0.015 | 0.015 | 0.020 |
| N | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 |
| H | 0.0015 | 0.0015 | 0.0015 | 0.0015 | 0.0015 |
| फ़े | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 |
| एमओ | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 | 0.020 |
| नायब | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 0.100 | 35.0-42.0 |
| नी | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 |
| साई | 0.005 | 0.005 | 0.005 | 0.005 | 0.005 |
| ती | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 | 0.010 |
| W | 0.050 | 0.050 | 9.0-11.0 | 2.0-3.5 | 0.050 |
| टा | दोबारा | दोबारा | दोबारा | दोबारा | दोबारा |
आपूर्तिकर्ता और खरीदार द्वारा सहमत होने के लिए विशेष आवश्यकताएं।
धाराविदुर
काधब्बा टैंटलम रॉडअपने धातु के रूप को पार करता है, एक निर्दोष सतह के सौंदर्य और कार्यात्मक लाभों के साथ टैंटलम के निहित गुणों को सम्मिश्रण करता है। उन्नत पॉलिशिंग तकनीकों के माध्यम से, यह बेलनाकार उत्पाद एक दर्पण - को प्राप्त करता है जैसे कि फिनिश जो अनुप्रयोगों में अपने प्रदर्शन को बढ़ाता है जहां सतह की गुणवत्ता सामग्री संरचना के रूप में महत्वपूर्ण है।
पॉलिशिंग टैंटलम की छड़ें सतह की खामियों को दूर करने के लिए मैकेनिकल पीस के साथ शुरू होती हैं, इसके बाद इलेक्ट्रोकेमिकल पॉलिशिंग (ईसीएम) या केमिकल - मैकेनिकल प्लानराइजेशन (सीएमपी) अल्ट्रा - चिकनी परिणामों के लिए। प्रक्रिया सतह के खुरदरेपन को 0.1μm ra के रूप में कम करती है, सूक्ष्म - दरारें और दरारें को समाप्त करती है जहां दूषित या बैक्टीरिया जमा हो सकते हैं। यह चिकित्सा और अर्धचालक उद्योगों में विशेष रूप से महत्वपूर्ण है, जहां पवित्रता और स्वच्छता सर्वोपरि है।
चिकित्सा उपकरण निर्माण में, पॉलिश किए गए टैंटलम छड़ को सर्जिकल उपकरण, आर्थोपेडिक प्रत्यारोपण और नैदानिक उपकरणों में मशीनीकृत किया जाता है। चिकनी सतह घर्षण को कम करती है, आसन्न ऊतकों पर पहनने को कम करती है और प्रत्यारोपण जीवनकाल का विस्तार करती है। उदाहरण के लिए, पॉलिश टैंटलम बोन स्क्रू हड्डी के ऊतकों के साथ मूल रूप से एकीकृत करते हैं, जिससे सूजन या अस्वीकृति का खतरा कम होता है। सेमीकंडक्टर फैब्रिकेशन में, पॉलिश की गई छड़ कैपेसिटर के लिए एनोड के रूप में काम करती हैं, जहां एक दोष - मुक्त सतह एक समान ढांकता हुआ विकास (ta₂o₅) सुनिश्चित करती है, जो माइक्रोचिप्स में सुसंगत समाई के लिए महत्वपूर्ण है।
