पाउडर धातुकर्म द्वारा टैंटलम लक्ष्य का उत्पादन करने की प्रक्रिया
कच्चे माल की तैयारी: उच्च-शुद्धता टैंटलम पाउडर सोडियम थर्मल कमी या अन्य तरीकों से उत्पन्न होता है। टैंटालम पाउडर का थोक घनत्व आमतौर पर 1.82.6g/cm sight के बीच होता है और कण आकार 23 माइक्रोन होता है।
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग: टैंटलम पाउडर को कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग के लिए लेटेक्स पैकेज में रखा गया है। मोल्डिंग दबाव आमतौर पर 200mpa से अधिक होता है, और एक निश्चित घनत्व और आकार के साथ टैंटलम बिलेट प्राप्त करने के लिए होल्डिंग समय 20 मिनट से अधिक होता है।
सिंटरिंग: कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग के बाद टैंटलम बिलेट को एक वैक्यूम सिन्टरिंग भट्ठी में रखा जाता है और 1 × 10 × 10⁻−mpa से अधिक वैक्यूम की डिग्री और 2400 डिग्री से अधिक तापमान के तहत पाप किया जाता है। घने टैंटलम लक्ष्य प्राप्त करने के लिए होल्डिंग टाइम आमतौर पर 1.5 घंटे से अधिक होता है। पापी टैंटालम लक्ष्य का घनत्व आमतौर पर 15.4g/cm, से ऊपर होता है, और शुद्धता 99.99% या उससे अधिक तक पहुंच जाती है।
रोलिंग और हीट ट्रीटमेंट: सिनड टैंटलम बिललेट को रोल किया गया है, और रोलिंग की कुल प्रसंस्करण दर 30%60%है। रोलिंग के बाद, यांत्रिक गुणों और घनत्व को बेहतर बनाने के लिए गर्मी उपचार किया जाता हैटैंटलम लक्ष्य। गर्मी उपचार का तापमान आमतौर पर टैंटलम बिललेट के पिघलने बिंदु का 25% -45% होता है।
झेनन उच्च शुद्धता टैंटालम लक्ष्य उत्पाद विस्तार पैरामीटर तालिका
| उत्पाद: | टेंटलम स्पटरिंग टारगेट |
| शुद्धता: | 3N5, 4N |
| आकार: | अनुकूलित |
| आकार: | गोलाकार |
| तकनीकी: | पाउडर धातुकर्म |
| आवेदन पत्र: | पीवीडी कोटिंग उद्योग |
| पैकिंग: | वैक्यूम पैकेज, निर्यात कार्टन या लकड़ी के मामले के बाहर |
| संबंधित उत्पाद: | टीआई, नी, सीयू, सीओ, सीआर, अल, एफई, वी, जेडएन, एसएन, डब्ल्यू, मो, टीए, एनबी, जीई और ई। |
झेनन राउंड टैंटलम लक्ष्य उत्पाद नमूना प्रदर्शन चित्र


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ज़ेनन के बारे में प्रश्न
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2। क्या आप ओईएम करते हैं?
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