विवरण

तकनीकी पैरामीटर

सामान्य शुद्ध टैंटलम क्रूसिबल भाग और कार्य

पलकों: गुंबद के आकार का या सपाट, पिघलने के दौरान निष्क्रिय वातावरण (उदाहरण के लिए, Ar) को बनाए रखने के लिए सीलिंग खांचे के साथ। प्रतिक्रियाशील पिघल (उदाहरण के लिए, टाइटेनियम) के ऑक्सीकरण को कम करता है।

टोंटी: डालने के दौरान पिघले हुए प्रवाह को नियंत्रित करने के लिए कोणीय या सीधा, पतला। जोड़ों में संदूषण से बचने के लिए समान शुद्धता वाले टा से निर्मित।

थर्मोकपल वेल्स: बेलनाकार आस्तीन को क्रूसिबल दीवारों में डाला जाता है, जिसमें वास्तविक समय तापमान निगरानी (±1 डिग्री सटीकता) के लिए के {{0} प्रकार या एस - प्रकार के थर्मोकपल होते हैं।

समर्थन के छल्ले: क्रूसिबल के नीचे सपाट छल्ले, हीटिंग प्लेटों पर विरूपण को रोकने के लिए भार वितरित करते हैं।

भाग प्रकार	भौतिक शुद्धता	मुख्य कार्य	डिज़ाइन विवेचन
ढक्कन	99.95% से अधिक या उसके बराबर	वातावरण नियंत्रण	सीलिंग नाली की गहराई (0.5-1 मिमी)
टोंटी	99.95% से अधिक या उसके बराबर	नियंत्रित डालना	सुचारू प्रवाह के लिए टेपर कोण (30-60 डिग्री)।
थर्मोकपल खैर	99.98% से अधिक या उसके बराबर	तापमान माप	अंतराल को कम करने के लिए दीवार की मोटाई (1-2 मिमी)।
समर्थन अंगूठी	99.95% से अधिक या उसके बराबर	लोड वितरण	बाहरी व्यास क्रूसिबल बेस से मेल खाता है

प्लैटिनम पिघलाने के लिए प्रति किलोग्राम सर्वोत्तम मूल्य के साथ उच्च शुद्धता टैंटलम क्रूसिबल

शुद्ध टैंटलम क्रूसिबल भागों का निर्माण और एकीकरण

समान शुद्धता और थर्मल विस्तार सुनिश्चित करने के लिए भागों को मुख्य क्रूसिबल के समान बिलेट से मशीनीकृत किया जाता है (टीए का सीटीई: 6.5×10⁻⁶/ डिग्री)। जुड़ने के तरीकों में शामिल हैं:

टांकना: जोड़ों पर ऑक्साइड गठन से बचने के लिए वैक्यूम भट्टियों (10⁻⁴ Pa) में Ta{0}} आधारित फिलर (उदाहरण के लिए, Ta-10W) का उपयोग करना।

यांत्रिक बन्धन: गैल्वेनिक जंग को रोकने के लिए टा वाशर के साथ थ्रेडेड या क्लैम्प्ड कनेक्शन।

अनुप्रयोग-विशिष्ट अनुकूलन

क्रिस्टल के विकास के लिए, प्रवाह में गड़बड़ी से बचने के लिए टोंटियों को हटाया जा सकता है; उच्च तापमान सिंटरिंग के लिए, ढक्कन विकिरण ढाल को एकीकृत करते हैं। परमाणु सेटिंग्स में, हिस्से रेडियोलॉजिकल रूप से साफ होते हैं (कोई Co-60, Cs-137 नहीं) और आइसोटोप रिसाव को रोकने के लिए रिसाव परीक्षण (हीलियम द्रव्यमान स्पेक, संवेदनशीलता 10⁻¹² atm·cc/s) पास करते हैं।

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इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीकरणकर्ता के लिए वाष्पीकरण सामग्री 99.95% 3N5 टैंटलम क्रूसिबल

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