शुद्ध ता धातु स्पटरिंग लक्ष्य

शुद्ध ता धातु स्पटरिंग लक्ष्य

शुद्धता: 99.9%
डिलीवरी का समय: 15-18 दिन
सतह: पॉलिश और चमकदार
प्रमाणपत्र: ISO9001:2015
न्यूनतम ऑर्डर मात्रा: 1 टुकड़ा
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
टैंटालम लक्ष्यों का उपयोग

 

इसका उपयोग वाष्पीकरण वाहिकाओं आदि को बनाने के लिए किया जा सकता है, तथा इलेक्ट्रॉन ट्यूबों, रेक्टिफायर्स, इलेक्ट्रोलाइटिक कैपेसिटर आदि के लिए इलेक्ट्रोड के रूप में भी इसका उपयोग किया जा सकता है।

इसका उपयोग चिकित्सा में पतली चादरें या तंतु बनाने और क्षतिग्रस्त ऊतकों की मरम्मत के लिए किया जाता है।

इसका व्यापक रूप से रासायनिक, इलेक्ट्रॉनिक, विद्युत, सैन्य और अन्य उद्योगों में उपयोग किया जाता है।

टैंटालम लक्ष्यों का व्यापक रूप से अर्धचालक, भंडारण, सैन्य, एयरोस्पेस, ग्लास, पीवीडी कोटिंग, सीवीडी कोटिंग आदि में उपयोग किया जाता है।

 

टैंटालम लक्ष्यों की विशिष्टताएँ

 

वस्तु
शुद्ध टैंटालम लक्ष्य
उपलब्ध शुद्धता
99.95%
उपलब्ध आकार
लोकप्रिय आकार 1''-20'' ग्राहक अनुरोध के अनुसार
उपलब्ध आकार
आयत, गोल, रोटरी, छर्रे, सिल्लियां,
तकनीकी
सिंटरिंग

 

हमारी सेवा

 

1. हम अपने ग्राहकों के अनुरोधों का 24 घंटे के भीतर जवाब देने की पूरी कोशिश करेंगे।

2. हम अपने ग्राहकों के साथ प्रभावी एवं कुशल संचार बनाए रखेंगे।
3. हम प्रथम श्रेणी की गुणवत्ता नियंत्रण और बिक्री के बाद सेवाएं प्रदान करते हैं।

 

ग्राहक का दौरा और कंपनी का माहौल

 

Pure Tantalum metal sputtering target

ta metal sputtering target

ज़ेनान चीन में उत्कृष्ट गुणवत्ता, अनुकूल कीमतों और अच्छी प्रतिष्ठा के साथ एक पेशेवर धातु उत्पाद आपूर्तिकर्ता है। हमारे कारखाने का दौरा करने के लिए आपका स्वागत है।

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