उच्च शुद्धता वाले टा मेटल क्रूसिबल टैंटलम (टा) से बने कंटेनर होते हैं जिनकी शुद्धता आम तौर पर 99.98% से अधिक या उसके बराबर होती है और अक्सर 99.99% तक पहुंच जाती है, जो सबसे अधिक मांग वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए इंजीनियर की जाती है, जहां उप-पीपीएम संदूषक भी भौतिक गुणों या प्रक्रिया परिणामों को बदल सकते हैं।
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टा मेटल क्रूसिबल में उच्च शुद्धता को परिभाषित करना
उच्च शुद्धता टा धातु क्रूसिबलटैंटलम (टीए) से बने कंटेनर होते हैं जिनकी शुद्धता आम तौर पर 99.98% से अधिक या उसके बराबर होती है और अक्सर 99.99% तक पहुंचती है, सबसे अधिक मांग वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए इंजीनियर की जाती है जहां उप-पीपीएम संदूषक भी भौतिक गुणों या प्रक्रिया परिणामों को बदल सकते हैं।
"उच्च शुद्धता" ज़ोन रिफाइनिंग, कोल्ड क्रूसिबल इंडक्शन मेल्टिंग और मल्टीपल वीएआर पास जैसे उन्नत रिफाइनिंग के माध्यम से अशुद्धता के स्तर को एकल-अंक पीपीएम तक कम करने का संकेत देता है। इनटा मेटल क्रूसिबल्ससुनिश्चित करें कि जहाज पिघलने में वस्तुतः कोई विदेशी तत्व न डाले, जो सेमीकंडक्टर क्रिस्टल विकास, दुर्लभ पृथ्वी इलेक्ट्रोलिसिस और परमाणु ईंधन निर्माण के लिए महत्वपूर्ण है जहां सामग्री की अखंडता सर्वोपरि है।
अपवित्रता
विशिष्ट अधिकतम (पीपीएम) - 99.99% ग्रेड
अधिक होने पर परिणाम
फ़े
5 से कम या उसके बराबर
मिश्र धातु रसायन विज्ञान को बदल देता है, समावेशन का कारण बनता है
नी
3 से कम या बराबर
संक्षारण प्रतिरोध कम हो जाता है
O
5 से कम या उसके बराबर
तापमान पर भंगुरता उत्पन्न करता है
C
10 से कम या उसके बराबर
कार्बाइड बनाता है, संरचना को कमजोर करता है
उच्च शुद्धता टा मेटल क्रूसिबल के प्रमुख औद्योगिक अनुप्रयोग
सेमीकंडक्टर क्रिस्टल ग्रोथ- SiC, GaN, नीलमणि के लिए अल्ट्रा-प्योर मेल्ट का नियंत्रण; डोपेंट संदूषण को समाप्त करता है जो इलेक्ट्रॉनिक या ऑप्टिकल प्रदर्शन को ख़राब कर सकता है।दुर्लभ पृथ्वी धातु न्यूनीकरण- एनडी, डाई, टीबी के लिए फ्लोराइड या क्लोराइड मेल्ट में इलेक्ट्रोलाइटिक/मेटालोथर्मिक प्रक्रियाएं; चुंबकीय विशेषताओं को सुरक्षित रखता है।परमाणु ईंधन निर्माण- न्यूनतम न्यूट्रॉन-अवशोषित अशुद्धियों के साथ एक्टिनाइड मिश्र धातुओं को पिघलाना, लाभ उठानाटैंटलमकम न्यूट्रॉन क्रॉस-सेक्शन और विकिरण सहनशीलता।
उच्च शुद्धता टा मेटल क्रूसिबल के लाभ
इनटा मेटल क्रूसिबल्सdeliver the highest standard of melt cleanliness, enabling defect‑free single crystals and high‑value metal production. Their ultra‑low vapor pressure at >2500 डिग्री विस्तारित अभियानों पर आयामी स्थिरता सुनिश्चित करता है। महीन, पुनर्क्रिस्टलीकृत अनाज संरचना रेंगने के प्रतिरोध को बढ़ाती है, जिससे 2000 डिग्री पर लोड के तहत उपयोग की अनुमति मिलती है। एक पॉलिश इंटीरियर (0.4 µm से कम या उसके बराबर) न्यूक्लिएशन साइटों को कम करता है, सफाई को आसान बनाता है और पूरी तरह से स्वचालित, उच्च-थ्रूपुट उत्पादन वातावरण में बैच-टू-बैच स्थिरता की गारंटी देता है।टैंटलम धातुउद्योग.
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