उच्च शुद्धता 99.95% टैंटलम टा क्रूसिबल

उच्च शुद्धता 99.95% टैंटलम टा क्रूसिबल

उच्च शुद्धता (99.95%) टैंटलम क्रूसिबल औद्योगिक प्रक्रियाओं के लिए अल्ट्रा-क्लीन रोकथाम प्रदान करते हैं जहां सूक्ष्म अशुद्धियाँ भौतिक गुणों, उत्पाद की उपज, या प्रक्रिया दोहराव को गंभीर रूप से प्रभावित करती हैं।
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टैंटलम क्रूसिबल में उच्च शुद्धता को परिभाषित करना

 

उच्च शुद्धता (99.95%) टैंटलम क्रूसिबल औद्योगिक प्रक्रियाओं के लिए अल्ट्रा-क्लीन रोकथाम प्रदान करते हैं जहां सूक्ष्म अशुद्धियाँ भौतिक गुणों, उत्पाद की उपज, या प्रक्रिया दोहराव को गंभीर रूप से प्रभावित करती हैं।

 

99.95% शुद्धता स्तर का मतलब है कि टैंटलम मैट्रिक्स में कुल धात्विक और गैसीय अशुद्धियाँ 0.05% से कम या उसके बराबर हैं, जिसमें Fe, Ni, Cr और O जैसे प्रमुख संदूषक दसियों पीपीएम से नीचे हैं। यह ग्रेड डबल वैक्यूम आर्क रीमेल्टिंग (वीएआर) या इलेक्ट्रॉन बीम मेल्टिंग (ईबीएम) के माध्यम से प्राप्त किया जाता है, जिसके बाद जोन रिफाइनिंग, एकरूपता सुनिश्चित करना और अस्थिर प्रजातियों को हटाना होता है। पिघली हुई सामग्री के साथ अवांछित प्रतिक्रियाओं को रोकने के लिए शेष अशुद्धियों को सावधानीपूर्वक नियंत्रित किया जाता है, खासकर उच्च मूल्य वाली धातु और सिरेमिक उत्पादन में।
अशुद्धि तत्व
अधिकतम स्वीकार्य (पीपीएम)
अधिक होने पर प्रभाव
आयरन (Fe)
50
मिश्रधातुओं में अवांछित चरण निर्माण को उत्प्रेरित कर सकता है
निकेल (नी)
30
प्रसंस्कृत पिघल के संक्षारण प्रतिरोध को बदल सकता है
ऑक्सीजन (O)
20
उच्च तापमान पर भंगुरता का कारण बनता है
कार्बन (सी)
50
धातुओं में कार्बाइड के समावेश का परिचय देता है

 

उच्च शुद्धता टैंटलम क्रूसिबल का लाभ उठाने वाले औद्योगिक अनुप्रयोग

 

इन क्रूसिबलों को उन क्षेत्रों में व्यापक रूप से अपनाया जाता है जहां उत्पाद की सफाई पर समझौता नहीं किया जा सकता है:
दुर्लभ पृथ्वी धातु न्यूनीकरण- इलेक्ट्रोलाइटिक या मेटलोथर्मिक कमी के दौरान पिघला हुआ फ्लोराइड या क्लोराइड शामिल करें, जो नियोडिमियम, डिस्प्रोसियम या येट्रियम के संदूषण को रोकता है।
सेमीकंडक्टर घटक निर्माण- लक्ष्य उत्पादन को स्पटरिंग करने के लिए उच्च शुद्धता वाली धातुओं को पकड़ें, यह सुनिश्चित करते हुए कि जमाव परतें इलेक्ट्रॉनिक -ग्रेड मानकों को पूरा करती हैं।
परमाणु सामग्री प्रबंधन- न्यूनतम न्यूट्रॉन-अवशोषित अशुद्धता परिचय के साथ यूरेनियम या थोरियम मिश्र धातुओं को सुरक्षित रूप से पिघलाएं और ढालें।
उनका उच्च गलनांक (3017 डिग्री) और एसिड, पिघले हुए लवण और प्रतिक्रियाशील धातुओं के प्रति रासायनिक जड़ता निरंतर उच्च तापमान अभियानों में उपयोग की अनुमति देती है, जिससे क्रूसिबल चेंजओवर से जुड़े डाउनटाइम को कम किया जाता है।

चरम स्थितियों में प्रदर्शन लाभ

2500 डिग्री से ऊपर भी कम वाष्प दबाव के कारण, 99.95% क्रूसिबल नगण्य द्रव्यमान हानि का अनुभव करते हैं, जिससे लंबी सेवा अवधि में आयामी सटीकता बनी रहती है। महीन, पुनः क्रिस्टलीकृत अनाज संरचना रेंगने के प्रतिरोध को बढ़ाती है, जिससे वे 2000 डिग्री पर 10 एमपीए तक के भार के लिए उपयुक्त हो जाते हैं। उनकी पॉलिश सतह (आरए 0.8 µm से कम या उसके बराबर) न्यूक्लिएशन साइटों को कम करती है, ठोस पिघल को आसानी से हटाने की सुविधा प्रदान करती है और स्वचालित उत्पादन लाइनों में सफाई प्रोटोकॉल को सरल बनाती है।

 

Evaporation material 99.95% 3N5 tantalum crucible for electron beam evaporator
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