उच्च घनत्व टैंटालम लक्ष्य

ज़ेनन टैंटलम लक्ष्य उत्पादों के उत्पादन पद्धति का परिचय

टैंटलम लक्ष्य सामग्री की तैयारी विधि में आमतौर पर निम्नलिखित चरण शामिल होते हैं:
‌1। पाउडर धातुकर्म: 2-3 माइक्रोन के कण आकार के साथ टैंटालम पाउडर का उत्पादन करने के लिए सोडियम थर्मल कमी विधि का उपयोग करें।
2. ‍कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग: टैंटलम पाउडर को 200 एमपीए से अधिक दबाव और 20 मिनट से अधिक के होल्डिंग समय के साथ लेटेक्स पैकेज में ठंडा आइसोस्टैटिक रूप से दबाया जाता है।
‌ 3. सिंटरिंग: सिंटरिंग 1*10^-2एमपीए से अधिक वैक्यूम और 2400 डिग्री से अधिक तापमान की स्थिति में की जाती है, जिसमें 1.5 घंटे से अधिक का होल्डिंग समय होता है।
‌ 4। रोलिंग और हीट ट्रीटमेंट,: सिनड टैंटलम बिललेट को लुढ़काया जाता है और गर्मी का इलाज अंत में प्राप्त करने के लिए किया जाता हैटैंटलम लक्ष्यसामग्री।

टा स्पटरिंग लक्ष्य

शुद्ध टैंटलम लक्ष्य

ग्राहकों की अनुकूलित आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए विभिन्न आकारों के उत्पाद प्रदान करें।

गुणवत्ता आश्वासन: परिपक्व उत्पादन तकनीक और परीक्षण विधियां हों।

आपूर्ति गारंटी: पर्याप्त कच्चे माल, पर्याप्त उपकरण क्षमता और लघु वितरण चक्र।

प्रश्न: धातु सामग्री के ब्रांडों और प्रकारों का चयन कैसे करें?

उत्तर: अधिकांश उत्पाद विवरण पृष्ठों पर, हम विभिन्न ब्रांडों की सामग्रियों के विभिन्न उपयोगों का सारणीबद्ध रूप में वर्णन करेंगे। यदि आपकी कोई अन्य समस्या है तो हम इस पर आगे चर्चा कर सकते हैं।

प्रश्न: निश्चित नहीं है कि किस तरह की धातु सामग्री की आवश्यकता है?

A: कृपया हमें सामग्री के उपयोग के बारे में बताएं, और हम आपको विभिन्न सामग्री विशेषताओं के अनुसार संदर्भ देंगे।

प्रश्न: क्या आप परीक्षण रिपोर्ट प्रदान करते हैं?

A: हाँ, हम तृतीय-पक्ष परीक्षण रिपोर्ट प्रदान करते हैं। यदि कोई तीसरा पक्ष निर्दिष्ट किया जाता है, तो अतिरिक्त शुल्क लिया जाएगा।