टैंटालम लक्ष्य तैयार करने की प्रक्रिया
इसमें मुख्य रूप से शामिल हैं: ① लक्ष्य रिक्त तैयारी, जिसे दो तरीकों में विभाजित किया गया है: कास्टिंग, फोर्जिंग और पाउडर बनाने। पिघलने, कास्टिंग और फोर्जिंग हाइड्रोमेटेलर्जी के माध्यम से अयस्क से प्राप्त टैंटलम पाउडर है, जिसे तब इलेक्ट्रॉनिक गलाने या इलेक्ट्रिक आर्क फर्नेस गलाने का उपयोग करके आइसोस्टेटिक रूप से दबाया और सिंटर किया जाता है ताकि शुद्धता की आवश्यकताओं को पूरा करने वाले टैंटलम सिल्लियां तैयार की जा सकें, और अंत में कमरे के तापमान या गर्म फोर्जिंग, रोलिंग और एक्सट्रूज़न जैसे विरूपण प्रसंस्करण के माध्यम से प्राप्त किया जा सके। विशिष्ट आंतरिक संरचना के साथ टैंटलम लक्ष्य रिक्त, पाउडर बनाने एक टैंटलम लक्ष्य रिक्त है जो हाइड्रोमेटेलर्जी विधि द्वारा प्राप्त टैंटलम पाउडर के प्रत्यक्ष आइसोस्टेटिक दबाव और सिंटरिंग द्वारा तैयार किया जाता है।
टैंटालम लक्ष्यों के संबंधित घटक
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ब्रांड |
रासायनिक संरचना ≯% |
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टा |
फ़े |
हाँ |
नी |
W |
एमओ |
ती |
नायब |
O |
C |
H |
N |
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ता1 |
मैट्रिक्स |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.002 |
0.050 |
0.02 |
0.004 |
0.002 |
0.005 |
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ता2 |
मैट्रिक्स |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.002 |
0.002 |
0.1 |
0.03 |
0.010 |
0.002 |
0.010 |
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