टैंटलम लक्ष्यों के मुख्य अनुप्रयोग क्षेत्र
टैंटलम लक्ष्यउत्पादों का उपयोग मुख्य रूप से कई उच्च तकनीक वाले क्षेत्रों में किया जाता है जैसे कि इलेक्ट्रॉनिक्स और सेमीकंडक्टर विनिर्माण, एंटी-जंग कोटिंग्स और चिकित्सा उपकरण।
इलेक्ट्रॉनिक्स और अर्धचालक विनिर्माण के क्षेत्र में, टैंटलम लक्ष्य भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) या रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) तकनीक के माध्यम से पतली फिल्म सामग्री का एक महत्वपूर्ण स्रोत बन गया है, और विभिन्न इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों और अर्धचालक घटकों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है।
एंटी-जंग कोटिंग्स के संदर्भ में, टैंटलम लक्ष्यों का उपयोग व्यापक रूप से उपकरणों और घटकों के निर्माण के लिए किया जाता है, जिन्हें रासायनिक उपकरणों में रिएक्टरों और पाइपलाइनों जैसे उनके उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध के कारण संक्षारक वातावरण का सामना करने की आवश्यकता होती है।
चिकित्सा उपकरणों के क्षेत्र में, टैंटलम लक्ष्यों में अच्छी जैव -रासायनिकता होती है और इसका उपयोग चिकित्सा उपकरणों जैसे कृत्रिम जोड़ों और खोपड़ी की मरम्मत प्लेटों के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
इसके अलावा, नई बुनियादी ढांचा परियोजनाओं, नई ऊर्जा वाहनों और औद्योगिक इंटरनेट में विद्युतीकरण के निरंतर त्वरण के साथ-साथ मोबाइल संचार उपकरण और वायरलेस प्रौद्योगिकियों के व्यापक उपयोग के साथ, कैपेसिटर, ऑप्टिकल लेंस, फिल्टर सब्सट्रेट्स में टैंटलम लक्ष्यों के लिए आवेदन की मांग आदि भी लगातार बढ़ रहे हैं।
ज़ेनान टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य उत्पादों के विस्तृत पैरामीटर
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परिपत्र स्पटरिंग लक्ष्य |
व्यास |
1.0" 2.0" 3.0" 4.0" 5.0" 6.0" 21 तक " |
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आयताकार स्पटरिंग लक्ष्य |
चौड़ाई x लंबाई |
5" x 12" 5" x 15" 5" x 20" 5" x 22" 6" x 20" |
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मोटाई |
0.125", 0.25" |
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गोल उच्च शुद्धता टैंटालम लक्ष्य उत्पाद चित्र प्रदर्शन
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हमारे बारे में अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
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हम मुख्य रूप से टंगस्टन, मोलिब्डेनम, जिरकोनियम, टैंटलम, नाइओबियम और उनके मिश्र धातु उत्पादों की आपूर्ति करते हैं।
3. आपकी कंपनी का गुणवत्ता नियंत्रण क्या है?
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