धातु लक्ष्य क्या है?

धातु लक्ष्य क्या है?

लक्ष्य सामग्री पतली फिल्में तैयार करने के लिए मुख्य सामग्रियों में से एक है। इसका उपयोग मुख्य रूप से एकीकृत सर्किट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, सौर सेल, रिकॉर्डिंग मीडिया, स्मार्ट ग्लास इत्यादि में किया जाता है, और इसमें सामग्री की शुद्धता और स्थिरता के लिए उच्च आवश्यकताएं होती हैं।

स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का कार्य सिद्धांत: स्पटरिंग पतली फिल्म सामग्री तैयार करने की मुख्य तकनीकों में से एक है। यह ठोस सतह पर बमबारी करने के लिए एक उच्च गति ऊर्जा आयन बीम बनाने के लिए तेजी लाने और निर्वात में इकट्ठा होने के लिए आयन स्रोत द्वारा उत्पन्न आयनों का उपयोग करता है। ठोस सतह पर आयन और परमाणु गतिज ऊर्जा का आदान-प्रदान करते हैं, जिससे ठोस सतह पर परमाणु ठोस छोड़ देते हैं और सब्सट्रेट सतह पर जमा हो जाते हैं। बमबारी किया गया ठोस स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री है।

लक्ष्य सामग्रियों के विकास की प्रवृत्ति है: उच्च स्पटरिंग दर, अनाज अभिविन्यास नियंत्रण, बड़े आकार, और उच्च शुद्धता वाली धातु।

लक्ष्य सामग्री को "टारगेट ब्लैंक" और "बैक प्लेट" द्वारा वेल्ड किया जाता है।

(1) लक्ष्य रिक्त उच्च गति आयन किरण द्वारा बमबारी की गई लक्ष्य सामग्री है। यह स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का मुख्य भाग है और इसमें उच्च शुद्धता वाली धातु और अनाज अभिविन्यास नियंत्रण शामिल है। स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रिया के दौरान, लक्ष्य रिक्त स्थान पर आयनों द्वारा प्रहार किए जाने के बाद, इसकी सतह के परमाणु बिखर जाते हैं और एक इलेक्ट्रॉनिक पतली फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं।

(2) बैक प्लेट स्पटरिंग लक्ष्य को ठीक करने में एक प्रमुख भूमिका निभाती है, जिसमें वेल्डिंग प्रक्रियाएं शामिल होती हैं। चूँकि उच्च-शुद्धता वाली धातुओं में कम ताकत होती है, इसलिए स्पटरिंग प्रक्रिया को पूरा करने के लिए स्पटरिंग लक्ष्य को एक समर्पित मशीन में स्थापित करने की आवश्यकता होती है। मशीन उच्च{{4}वोल्टेज, उच्च{{5}वैक्यूम वातावरण में है। इसलिए, अल्ट्रा{7}उच्च-शुद्धता वाले धातु के स्पटरिंग लक्ष्य को विभिन्न वेल्डिंग प्रक्रियाओं के माध्यम से पिछली प्लेट में जोड़ने की आवश्यकता होती है। पिछली प्लेट में अच्छी विद्युत और तापीय चालकता होनी चाहिए।